等离子体可以通过直流或高频交流电场产生,当采用交流时,只能选用电信规定的科研及工业用频段(中频(MF)40kHz、高频(HF)13.56kHz、微波频率(MW)2.45GHz),否则会干扰无线电通信。常规情况下,等离子体的发生和对材料的处理效果与以下几个方面相关。
1、工艺气体
一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类,一类为惰性气体的等离子体(如Ar2,N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2,H2.含氟气体等)。以氩等离子为例,在一个物理过程中,在氩等离子中产生的离子会以足够的能量辐射表面,去掉表面污染物。带正电的氩等离子将被吸引到在真空腔体的负极板。由于高能等离子撞击,撞击力足以去除表面上的任何污垢,随后污垢通过真空泵以气体形式排出。
2、气体流量
工艺腔体压力与气流速度、产品排气率和泵速成函数关系。腔体内气体接入量的不同,造成产生等离子体的密度不同,从而影响处理效果。
3、功率
通过提高等离子处理的功率,可增加等离子体的密度和能量,从而加快等离子处理的速度。等离子体密度是单位体积内所包含的等离子体的数量。等离子体能量定义了等离子体进行表面物理轰击的能力。
4、时间
工艺时间的长短与功率、气体流量和气体类型相关。以在PBGA基板上提高引线的键合能力为例,一个短时间的等离子处理,引线的键合强度相对于未处理前只提高了2%;但是将处理时间增加1/3,引线的键合强度将比未处理前提高20%。这里应该指出的是,过长的工艺时间并不总是可以提高材料的表面活性。从提高生产效率这方面出发,还应尽量减少工艺时间,这在大批量生产中尤为重要。
实际上,在整个等离子处理过程中,影响处理效果的要素还包括过程温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等。等离子表面处理工艺的最大特点是能对任何材质的材料进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子有机聚合物(聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、聚四氟乙烯)等材料,并可实现整体、局部和复杂结构的表面处理。处理后的重要效果之一是提高基材表面的活性(附着力)。不同的元器件和材料在进行等离子处理时,需要根据具体情况和实验数据制定适合的相关工艺。
等离子清洗机在微电子研究、加工等行业中应用非常广泛、已经成为微电子制造业中不可缺少的一道工艺。
Plasma等离子清洗设备的原理及应用
真空等离子清洗机、大气等离子处理机、宽幅等离子清洗机有几种称谓,又称低温等离子体处理机.等离子处理器,等离子处理仪;低温等离子表面处理机,等离子处理设备,等离子体处理设备,电浆清洗机,电浆处理机,plasma处理机,plasma清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子去胶机,等离子体清洗机,等离子体清洗器,等离子体清洗设备。小型、中型及大型等离子表面处理设备广泛应用于实验室及工业生产等场合。工作原理是通过其等离子处理技术,改善材料表面润湿能力,等离子体清洗机使材料能够进行涂覆、涂镳、灰化等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。
plasma等离子清洗机设备应用领域包括:
1.半导体集成电路及微电子产业;
2.LCD液晶/LED封装,PCB线路板制造;
3.等离子清洗机生物医疗材料表面改性修饰;
4.精密仪器、机械及电气制造;
5.等离子处理机聚合物薄膜、纺织纤维改性处理;
6. APR大气等离子清洗机手机触摸屏、平板电脑玻璃盖板清洗活化;
7.等离子表面处理器用于汽车制造、橡胶塑料产业;
plasma等离子清洗机设备的原理及应用
等离子清洗机设备采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和馒润性,并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
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