等离子体除臭设备适用行业有很多，制药、印染、制造、化工、化纤等行业在运作过程中会产生大量挥发性有机污染物(VOCs)传统的处理方法如吸收、吸附、冷凝和燃烧法等(详见：有机废气处理组合工艺)，对于低浓度的VOCs很难实现，而光催化降解VOCs又存在催化剂容易失活的问题，利用低温等离子体处理VOCs可以不受上述条件的限制，具有潜在的优势。
伴随着VOCs治理工程的迅猛发展，其相关治理技术也是不断增加完善。除了市场上常见的燃烧法、活性炭吸附法、光氧催化、冷凝回收法之外，等离子体法也犹如异军突起般，占据了一片市场，尤其是在有油烟颗粒的净化项目上
在产生离子氧的过程中，高频放电产生瞬间高能量，打开某些有机气体分子的化学键，使其分解成单质原子、基团或小分子片断；离子氧中包含大量的高能电子、离子、激发态粒子和具有强氧化性的自由基，这些活性粒子的平均能量高于气体分子的键能，它们和有机气体（VOCs）分子发生频繁的碰撞，打开气体分子的化学键，同时还会产生大量氧化性极强的O2、O2-、O2+、?OH、?H02、?O、O等氧簇聚集体，它们与有机气体分子发生化学反应生成H2O、CO2等无害产物。
主要的化学反应机理如下：
自由基产生 O2 + e(3.6eV) →?O + O
H2O + e(5.09eV) →?OH + H-
O + ?OH →?HO2
气体分子氧化分解 H2S + ?OH → HS + H2O
RCH2CH3 + ?OH → RCOCH3 + H2O
NH3 + O2、O2-、O2+ →NOx + H2O
VOCs + ?OH → CO2 + H2O + SO2
因此，整个处理机理为 VOCs + O2、O2-、O2+ → SO3 + CO2 + H2O
H2S + O2、O2-、O2+ → SO3 + H2O
离子氧中的离子氧等具有极强的氧化能力，其氧化能力是氧气的上千倍.可以将低级脂肪酸类、氮化合物、氨、硫化氢、硫醇类、VOC等污染物，以及综合性恶臭异味等其它有机物质在常温常压下迅速氧化，氧化所需时间只在千分之秒。根据原子物理原理，在离子氧作用下，只需极小的能量就能处理很大的风量，就象激光的能量原理一样，因此采用等离子臭气净化设备有一个很大的技术特点就是节能
利用等离子Plasma（离子氧）降解有机废气和、祛除恶臭、杀灭细菌、病毒、净化空气是国际上比较尖端的高新技术，国内外专家称之为21世纪环境科学四大技术之一。该技术的关键是通过高压脉冲介质阻挡放电的形式产生大量活性离子氧（离子氧），将气体激活，产生各种活性自由基，如?OH、?HO2、?O等，对苯、甲苯、二甲苯、氨气、烷烃类等有机废气发生降解、氧化等复杂的物理和化学反应，且副产物无毒，避免二次污染。该技术具有能耗极低，占地空间小，运行维护简单等特点，特别是适用于多种组分有机气体的处理
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