在半导体工业，真空设备(蒸发、溅射)、干法雷器(ICP、RIE、ICP、RIE、PECVD)、热处理设备(合金炉、退火炉)、掺杂设备(离子注入机等)作为半导体技术发展所必需的条件，这些真空设备必将发挥越来越大的作用。氦质谱仪是目前半导体设备泄漏检测中的常用仪器。
光子通讯检漏应用
为什么需要半导体设备和材料需要检漏？
1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；
3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。
半导体氦质谱检漏有两种方法：1.真空法 2.吸枪法；关于真空检漏方法的介绍之前已经讲述过，如有不明之处欢迎留言咨询。
半导体用真空配管氦质谱检漏方法: 采用真空模式检漏, 在怀疑有漏的地方喷氦气（一般需要检漏的部位是焊缝或连接处), 如果有漏, 检漏仪会出现声光 警同时在屏幕上显示当前漏率值.诺益氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏, 利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 PLC。
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