氢化物废气处理方法介绍

氢化物(如AsH3、PH3、SiH4、GeH4)为半导体厂炉管、离子植入制程及光电厂MOCVD制程大量使用的气体，而这些气体在制程中没有被完全利用，故会有毒性气体自制程机器排出。氢化物废气怎么处理下面为您介绍：

氢化物废气处理

1. 湿式法
2. 高温氧化法
3. 干式吸附法

氢化物废气处理方法

湿式法

湿式加药洗涤法处理后的废液毒性依旧，而且废液体积庞大，对工厂而言仍是一大负担。

高温氧化法

有不错的效果，但气体处理后产生大量的毒性微粒(如As2O3)容易披覆在管线及高温腔中，造成机器失效，因此必须在厂内对机器定期维修保养。维修时可能造成高毒性微粒逸散，对厂区及维修人员造成危害，SEMI F5-1101已建议不使用此种处理方式。

干式处理法

使用洁净剂(cleaning agents)，利用化学吸附使AsH3、PH3、SiH4等气体分子与洁净剂作用，生成非挥发性化合物，使制程尾气不再含有毒性气体。

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