三氟化氮（NF3）作为含氟特种气体的一类，常温下具有化学惰性，高温下则比氧气更活泼、比氟更稳定，且易于处理。
一般来说，三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂，适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。和其他含氟电子气体相比，三氟化氮具有反应快、效率高的优点，尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中，具有较高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，能够满足加工过程需求。
此外，三氟化氮可用作制备WF6的氟化剂，同时也可在火箭发射中作为氧化剂和推进剂使用。据统计，三氟化氮作为刻蚀剂和清洗剂的占比应用超过70%，而氟化剂、氧化剂、助燃剂的应用占比不足30%。
目前三氟化氮已成为大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能生产制造过程中必不可少的材料。2018年全球三氟化氮市场用量达到2.83万吨，预计到2021年全球三氟化氮市场需求量在4万吨左右。
本三氟化氮研究 告，对三氟化氮进行了详细的三氟化氮分析研究，内容包括行业国内市场分析，国外市场分析，市场供需分析、竞争对手分析，行业前景分析，市场风险分析。最后三氟化氮研究 告对三氟化氮行业前景做出了研究预测。
三氟化氮 告链接： https://www.hjbaogao.com.cn/bg/2020-04-22/541432.html
此 告由中国市场研究 提供，中国市场研究 是中国专业的行业市场调研研究 告 。
声明：本站部分 章内容系出于传递信息之目的源自于第三方 站转载，行业企业、终端用户投稿。若对稿件内容有任何疑问或质疑，请立即与本 站联系，本 站将迅速给予回应并第一时间做出处理（联系邮箱：jinwei@zod.com.cn）。