分离技术中的黑马——全二维气相色谱是如何实现的?

对于气相测定过程中遇到的共流出问题

我们在前两期的视频中提出了两种解决思路

一种是和质谱联用

另一种,就是今天我们要继续讨论的

分离技术中的黑马——全二维气相色谱

那它究竟是如何实现的呢?

全二维气相技术

从出现,到现在,已经有二十几年了

核心技术有两个:调制和数据处理

调制器的设计既是核心,也是瓶颈

每一次全二维气相的革新几乎就是调制器技术的革新

二维气相就是将第一根柱子上没有完全分离的组分

切到第二根不同极性的柱子上,再次分离

比如,有一种Deanswitch中心切割技术

就是这样的原理

不过中心切割技术需要有标样,才能确定切割时间

不适合未知样品

而且无论怎样切割

Deanswtich都只能将一部分化合物送入第二根色谱柱

所以这种二维气相只能称为GC+GC

并不是真正的全二维气相GC×GC

调制器

调制器类似于在线捕集器

可以实现连续不断地切割

将前一级色谱中的组分聚集下来

再送入第二维柱子

调制技术分为两种:气流调制和热调制

气流调制

其中,气流调制是间歇性地使用大流量载气

把样品吹扫到第二维柱

不适合质谱联用

热调制

现在主流使用的是热调制技术

而热调制又分为两种

制冷剂冷喷和固态热调制

制冷剂冷喷

其中,制冷剂冷喷就是对一维柱和二维柱连接的色谱柱

交替使用制冷剂,比如液氮进行冷喷

再用高温气体进行加热

通过反复冷却和加热实现冷阱效应

使一维柱流出的组分持续不断的冷冻和释放

从而以脉冲的形式

进入第二维色谱柱继续分离

它的优点是调制效果好

缺点是设备繁多,需要配置液氮钢瓶

固态热调制

另一种固态热调制技术,是近两年才突破的新设计

这种设计使用的是半导体制冷

也就是利用半导体材料的帕尔贴效应来实现精准控温

这种固态调制器,设计的最为精巧之处

在于将调制过程全部转移到柱温箱外部

传统制冷剂冷喷式调制器的调制过程发生在柱温箱内部

因为分析过程中温度可能升到200-300摄氏度

所以需要强大的液氮等制冷剂实现低温效果

而固态热调制器由于不需要抵抗柱温箱内的高温

制冷所需要的功率大大减少

以至于可以使用小巧简单的半导体制冷元件来实现低温

同时固态热调制采用将一段特制的调制柱

在固定的冷热区域之间来回运动

通过热传导实现快速制冷和加热过程

流经调制柱的化合物经过冷凝,解析,二次冷凝,解析

实现经典的两级调制

在第二根不同类型的色谱柱上继续分离

此外,由于调制柱是一根独立于一维和二维柱的色谱短柱

可以对其进行特殊制备

比如在特定的区域进行固定相涂覆

从而实现在半导体制冷片可以达到的最低温度下

对不同沸点范围的化合物进行有效补集和调制

灵活性大大超过了原来的制冷剂冷喷调制技术

这样一个设计思路的转变

消除了原有的制冷瓶颈

而性能和主流冷喷调制器相比,毫不逊色

但成本、维护和易用性都改善了很多

使得更多的实验室有机会用上这种原本高大上的仪器

也为全二维气相色谱技术在普通检测实验室和常规分析领域

甚至在线式和便携式的应用创造了条件

研究热度

在ScienceDirect数据库中

搜索标题中有全二维 +气相色谱的 献

可以看到,近五年来

全二维气相的研究热度持续增高,风头无二

然而天才的硬件设计

还是要和界面友好的软件

本地化的应用支持相结合

才能获得客户的认可和商业上的成功

对于全二维气相的未来,我们拭目以待!

配合二维气相第一期视频观看,更美味哦~

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